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光(guāng)化(huà)學(xué)高(gāo)壓(yā)反應(yīng)釜(fǔ)是由(yóu)：特(tè)製(zhì)光源，不(bù)鏽鋼釜(fǔ)體以(yǐ)及控製係(xì)統(tǒng)組成。用於(yú)新能源(yuán)，環(huán)境(jìng)，新藥研(yán)發(fā)領(lǐng)域的高(gāo)溫高壓光化(huà)學催化(huà)，合成(chéng)，降解(jiě)的(dí)中試(shì)及放(fàng)大(dà)生產。
電子級三(sān)甲(jiǎ)基(jī)氯矽烷(wán)工藝裝置主要(yào)由溶(róng)解(jiě)釜(fǔ)，加料釜，反應釜，接收(shōu)罐(guàn)，鹼液(yè)釜和渣漿釜等組成(chéng)。 其主要(yào)儀(yí)表(biǎo)及(jí)管(guǎn)閥(fá)件均采(cǎi)用(yòng)高(gāo)性(xìng)能產品，裝置非(fēi)標采用耐(nài)腐(fǔ)蝕材質(zhì)。PLC 係統采(cǎi)集(jí)確(què)保操作人員安全(quán)。 裝置的(dí)整體水(shuǐ)平(píng)要(yào)求自動(dòng)化程度(dù)高，數據精確度(dù)及(jí)重(zhòng)復性好，安(ān)全(quán)可(kě)靠 並(bìng)能長周(zhōu)期穩(wěn)定運行(háng)
濕式氧(yǎng)化實(shí)驗(yàn)裝置，具有耐(nài)壓，耐腐(fǔ)蝕，耐一(yī)定溫度(dù)的(dí)特(tè)性。攪拌方(fāng)式為環形(xíng)永(yǒng)磁驅(qū)動(dòng)靜密封(fēng)，攪拌(bàn)力強，無(wú)泄露(lòu)。適用於石(shí)油，化(huà)工，製(zhì)藥，染(rǎn)料，軍工，礦(kuàng)冶，食品(pǐn)等(děng)行(háng)業的科(kē)研(yán)院所，和大專院(yuàn)校(xiào)的(dí)科(kē)研領(lǐng)域，尤(yóu)其適用於(yú)大(dà)專(zhuān)院(yuàn)校(xiào)對學(xué)生進行(háng)示(shì)範性(xìng)試驗(yàn)。
超臨界水氧化裝置(zhì) 進液控(kòng)製單元由溶(róng)劑液體(tǐ)進料(liào)單(dān)元(yuán)和催(cuī)化(huà)劑溶液(yè)進(jìn)料單元(yuán)組成(chéng)。每一(yī)個(gè)液(yè)相(xiāng)進料(liào)操作均設(shè)置(zhì)有兩個(gè)原料罐，兩(liǎng)個液(yè)體精密計量(liáng)泵，一組(zǔ)出口操作管(guǎn)閥件組(zǔ)成。
YZSR10L全自(zì)動(dòng)反(fǎn)應釜采(cǎi)用 釜頭固定式(shì)，整機(jī)一體化設(shè)計，結(jié)構(gòu)合理，功(gōng)能*，中(zhōng)文菜(cài)單，輕(qīng)鬆(sōng)使(shǐ)用(yòng)；全(quán)新(xīn)觸摸屏(píng)式(shì)操(cāo)作，是(shì)目(mù)前(qián)市(shì)場(cháng)上高(gāo)科技的(dí)實驗(yàn)室反應(yīng)設備(bèi)；加熱係統與(yǔ)下釜(fǔ)體均(jūn)采用電動升降(jiàng)模塊(kuài)，左右旋轉(zhuǎn)90度，便於實驗操作；控(kòng)製(zhì)係(xì)統(tǒng)配備(bèi)雙(shuāng)控(kòng)溫模塊（釜內與(yǔ)加熱(rè)器），自動進水(shuǐ)降溫功(gōng)能，超溫，超(chāo)壓(yā)及故(gù)障(zhàng)聲光報(bào)警功能，恒溫(wēn)定時及程序升(shēng)溫等功能(néng)；
加速(sù)氫能賽(sài)道(dào)儲氫研發利(lì)器，設(shè)計反應(yīng)溫度500度 反應設計壓(yā)力10MPa，催(cuī)化(huà)劑填(tián)裝(zhuāng)量5ml，可以進(jìn)行加氫脫(tuō)氫工(gōng)藝研究(jiū)，儲氫原(yuán)料(liào)全過程(chéng)伴熱(rè)，進(jìn)入(rù)液體(tǐ)分配(pèi)模塊，均匀(yún)分配(pèi)成4路，分(fēn)配精(jīng)度(dù)1%RSD,出分配(pèi)後可以(yǐ)快速進(jìn)入(rù)4通道(dào)反應(yīng)器進(jìn)行(háng)反應，通道(dào)間溫度均匀性(xìng)0.5℃，反(fǎn)應出口獨(dú)立新鮮樣(yàng)采(cǎi)樣，產物(wù)氣(qì)液(yè)分(fēn)離，氣(qì)相匯(huì)總進行壓力控(kòng)製後尾氣排放(fàng)
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