岩(yán)征儀器 微(wēi)量(liáng)光化(huà)學高壓(yā)反(fǎn)應(yīng)釜裝(zhuāng)置(zhì)包含：光源設(shè)備(bèi)
，光化學反應(yīng)釜(fǔ)
，光源及釜(fǔ)體(tǐ)溫控(kòng)攪拌三大(dà)模(mó)塊(kuài)組成(chéng)。用於新能(néng)源及環(huán)境領(lǐng)域(yù)的高溫高壓(yā)光化學催(cuī)化
，合(hé)成(chéng)
，降(jiàng)解等(děng)反(fǎn)應(yīng)。如：光(guāng)解(jiě)水製(zhì)氫，光(guāng)催化還原(yuán)二氧化碳(tàn)製甲(jiǎ)醇，光解(jiě)水，二氧(yǎng)化碳還原(yuán)製(zhì)甲烷
，氮(dàn)氧化物的(dí)還原降(jiàng)解
，甲(jiǎ)醛的高(gāo)壓(yā)光(guāng)催化(huà)降(jiàng)解等。特(tè)別適用(yòng)少(shǎo)量(liáng)樣品的反(fǎn)應，是昂(áng)貴或低產量樣品光(guāng)催化(huà)，降解(jiě)，還(huán)原(yuán)的理(lǐ)想(xiǎng)反(fǎn)應裝(zhuāng)置(zhì)。

岩征儀(yí)器 微量(liáng)光化學高壓反(fǎn)應釜*技術(shù)特點(diǎn)：

1
，光(guāng)源可按照客戶(hù)要求選(xuǎn)擇，采(cǎi)用(yòng)LCD10.1英吋(dòu)液晶(jīng)觸摸控製器，光(guāng)源光(guāng)電參數(shù)及光(guāng)化學(xué)反(fǎn)應的溫(wēn)度，攪(jiǎo)拌等(děng)參數(shù)實時數字顯示(shì)在(zài)屏幕(mù)上，國內*。

2
，更(gēng)高(gāo)的使用壓力(lì)及(jí)溫度設計，普(pǔ)通(tōng)廠家(jiā)提供壓力(lì)：3mpa，溫度為(wéi)200℃的設計(jì)，岩(yán)征公司提供設(shè)計(jì)壓(yā)力於(yú)普通(tōng)廠家4倍的(dí)安全壓(yā)力釜體(tǐ)設計。

3
，更(gēng)專(zhuān)業的(dí)光(guāng)化(huà)學(xué)釜體設計：釜(fǔ)體(tǐ)包(bāo)含壓力表
，防爆裝置
，進氣(qì)閥門
，取(qǔ)樣(yàng)閥(fá)門(mén)，溫度(dù)測溫(wēn)探(tàn)杆，耐壓透光視窗6大齊全部(bù)件(jiàn)，全方(fāng)麵(miàn)監(jiān)控及采集您所需要的技術參(cān)數。

4
，采用頂(dǐng)入式(shì)光源設計，特製防(fáng)霧(wù)雙(shuāng)層(céng)JGS2光學級(jí)透(tòu)光(guāng)視窗，可特別選用藍寶石(shí)視窗。

5
，嵌(qiàn)入式(shì)一(yī)體加熱(rè)模塊(kuài)結構，加熱(rè)更均匀。釜體
，加熱器可(kě)*分離(lí)。極大的方便了反應釜(fǔ)的(dí)拆(chāi)卸工(gōng)作，提高(gāo)工作效率。

6
，更(gēng)全(quán)麵(miàn)的(dí)光(guāng)化學(xué)反(fǎn)應(yīng)釜(fǔ)的(dí)材質選(xuǎn)擇(zé)，除(chú)了(liǎo)提供普通廠(chǎng)家(jiā)提供的SU316L材(cái)質的釜體外(wài)，還提(tí)供(gōng)不鏽鋼(gāng)內襯(chèn)teflon，鈦材(cái)，鎳(niè)材，哈氏合(hé)金等非標材質(zhì)釜(fǔ)體的(dí)定(dìng)做(zuò)。

岩(yán)征儀器 微(wēi)量光化學(xué)高(gāo)壓反(fǎn)應釜型號為：YZ-GHX-HP係(xì)列(liè)，對(duì)應容(róng)積(jī)分別(bié)有(yǒu)10ml,25ml，50ml,100ml，250ml,500ml六款可(kě)選(xuǎn)。

岩征(zhēng)儀器(qì) 微量(liáng)光(guāng)化學高(gāo)壓(yā)反(fǎn)應(yīng)釜技術參數(shù)表(biǎo)：